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著者 (6件)：
資料名：
巻： 15 号： 3 ページ： 465-470 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902163387001253
整理番号：02A0616898
ブロック共重合体を用いるパターン形成媒質のためのナノパターン形成
Nano-Patterning for Patterned Media using Block-Copolymer.
ASAKAWA K
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
HIRAOKA T
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
HIEDA H
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
SAKURAI M
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
KAMATA Y
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
NAITO K
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 3 ページ： 465-470 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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