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資料名：
巻： 80 号： 12 ページ： 2135-2137 発行年： 2002年03月25日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902163396799373
整理番号：02A0311127
HfO2/SiO2/Siシステムの軟X線光電子放出研究
Soft x-ray Photoemission studies of the HfO2/SiO2/Si system.
SAYAN S
(Rutgers Univ., New Jersey)
,
GARFUNKEL E
(Rutgers Univ., New Jersey)
,
SUZER S
(Bilkent Univ., Ankara, TUR)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 80 号： 12 ページ： 2135-2137 発行年： 2002年03月25日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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