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著者 (3件)：
資料名：
巻： 42 号： 4 ページ： 1757-1761 発行年： 2001年02月
JST資料番号： D0472B ISSN： 0032-3861 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902164208761743
整理番号：01A0116866
193nmリソグラフィーにおけるプラズマエッチング抵抗性向上用の新規多重脂環式重合体
Novel multi-alicyclic polymers for enhancing plasma etch resistance in 193 nm lithography.
LEE J-H
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
,
AHN K-D
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHO I
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
資料名：
Polymer
(Polymer)
巻： 42 号： 4 ページ： 1757-1761 発行年： 2001年02月
JST資料番号： D0472B ISSN： 0032-3861 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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