文献
J-GLOBAL ID:200902164656858898
整理番号:97A0701421
ほう素薄膜の内部応力に照射イオン種が及ぼす効果
Effect of irradiation ion species on internal stress in boron thin films.
著者 (4件):
SATOMI N
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TANAKA K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KITAMURA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
NISHIKAWA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Journal of Nuclear Materials
(Journal of Nuclear Materials)
巻:
241/243
ページ:
1138-1141
発行年:
1997年02月
JST資料番号:
D0148A
ISSN:
0022-3115
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)