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著者 (7件)：
資料名：
巻： 11 号： 4 ページ： 555-563 発行年： 1998年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902165708439798
整理番号：98A0671979
フェニルカルビノールの酸-触媒脱水反応に基づく異方性酸-拡散を用いるネガ型EBレジスト材料
Negative EB Resist Materials Using Anisotropic Acid-Diffusion Based on Acid-Catalyzed Dehydration of Phenylcarbinols.
UCHINO S
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
YAMAMOTO J
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
MIGITAKA S
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
KOJIMA K
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
HASHIMOTO M
(Hitachi Chemical Co., Ibaraki, JPN)
,
MURAI F
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
SHIRAISHI H
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 11 号： 4 ページ： 555-563 発行年： 1998年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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