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著者 (4件)：
資料名：
巻： 78 号： 8 ページ： 4867-4872 発行年： 1995年10月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902165917879010
整理番号：95A0954258
ダスティーなAr/SiH4高周波放電における電子密度ゆらぎ
Electron density fluctuations in a dusty Ar/SiH4 rf discharge.
STOFFELS W W
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
STOFFELS E
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
KROESEN G M W
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
DE HOOG F J
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 78 号： 8 ページ： 4867-4872 発行年： 1995年10月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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