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著者 (9件)：
資料名：
巻： 15 号： 6 ページ： 2455-2461 発行年： 1997年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902166819777109
整理番号：98A0217114
極端紫外リソグラフィー用の波長毎の干渉法
At-wavelength interferometry for extreme ultraviolet lithography.
TEJNIL E
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
GOLDBERG K A
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
LEE S H
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
MEDECKI H
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
BATSON P J
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
DENHAM P E
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
MACDOWELL A A
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
BOKOR J
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
,
ATTWOOD D
(Lawrence Berkeley National Lab., California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 15 号： 6 ページ： 2455-2461 発行年： 1997年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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