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文献
J-GLOBAL ID:200902167068389988   整理番号:98A0995023

分子ビームエピタクシーによりSi(111)上に成長させたGaN中の浅いBeアクセプタを示す実験証拠

Experimental evidence for a Be shallow acceptor in GaN grown on Si(111) by molecular beam epitaxy.
著者 (9件):
S<span style=text-decoration:overline> ́A</span>NCHEZ F J
(UPM, Madrid, ESP)
CALLE F
(UPM, Madrid, ESP)
S<span style=text-decoration:overline> ́A</span>NCHEZ-GARC<span style=text-decoration:overline> ́I</span>A M A
(UPM, Madrid, ESP)
CALLEJA E
(UPM, Madrid, ESP)
MUNOZ E
(UPM, Madrid, ESP)
MOLLOY C H
(Univ. Wales Coll. Cardiff, Cardiff, GBR)
SOMERFORD D J
(Univ. Wales Coll. Cardiff, Cardiff, GBR)
SERRANO J J
(UPM, Madrid, ESP)
BLANCO J M
(UPM, Madrid, ESP)

資料名:
Semiconductor Science and Technology  (Semiconductor Science and Technology)

巻: 13  号: 10  ページ: 1130-1133  発行年: 1998年10月 
JST資料番号: E0503B  ISSN: 0268-1242  CODEN: SSTEET  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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