文献
J-GLOBAL ID:200902167068389988
整理番号:98A0995023
分子ビームエピタクシーによりSi(111)上に成長させたGaN中の浅いBeアクセプタを示す実験証拠
Experimental evidence for a Be shallow acceptor in GaN grown on Si(111) by molecular beam epitaxy.
著者 (9件):
S<span style=text-decoration:overline> ́A</span>NCHEZ F J
(UPM, Madrid, ESP)
,
CALLE F
(UPM, Madrid, ESP)
,
S<span style=text-decoration:overline> ́A</span>NCHEZ-GARC<span style=text-decoration:overline> ́I</span>A M A
(UPM, Madrid, ESP)
,
CALLEJA E
(UPM, Madrid, ESP)
,
MUNOZ E
(UPM, Madrid, ESP)
,
MOLLOY C H
(Univ. Wales Coll. Cardiff, Cardiff, GBR)
,
SOMERFORD D J
(Univ. Wales Coll. Cardiff, Cardiff, GBR)
,
SERRANO J J
(UPM, Madrid, ESP)
,
BLANCO J M
(UPM, Madrid, ESP)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
13
号:
10
ページ:
1130-1133
発行年:
1998年10月
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)