文献
J-GLOBAL ID:200902167246660402
整理番号:99A0651420
紫外線に感応する高分子塗布膜を用いた,マイクロリング共振器フィルタの波長の微調整
Wavelength Trimming of a Microring Resonator Filter by Means of a UV Sensitive Polymer Overlay.
著者 (6件):
CHU S T
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol., Kawasaki, JPN)
,
PAN W
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol., Kawasaki, JPN)
,
SATO S
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol., Kawasaki, JPN)
,
KANEKO T
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol., Kawasaki, JPN)
,
LITTLE B E
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
,
KOKUBUN Y
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol., Kawasaki, JPN)
資料名:
IEEE Photonics Technology Letters
(IEEE Photonics Technology Letters)
巻:
11
号:
6
ページ:
688-690
発行年:
1999年06月
JST資料番号:
T0721A
ISSN:
1041-1135
CODEN:
IPTLEL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)