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著者 (7件)：
資料名：
巻： 12 号： 3 ページ： 445-455 発行年： 1999年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902167709649683
整理番号：99A0609730
193nmステップアンドスキャン(step and scan)リソグラフィーにおける最近の進歩
Recent advancements in 193 nm step and scan lithography.
GOETHALS A M
(IMEC, Leuven, BEL)
,
JAENEN P
(IMEC, Leuven, BEL)
,
POLLERS I
(IMEC, Leuven, BEL)
,
VAN ROEY F
(IMEC, Leuven, BEL)
,
RONSE K
(IMEC, Leuven, BEL)
,
HESKAMP B
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
DAVIES G
(ASML, Veldhoven, NLD)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12 号： 3 ページ： 445-455 発行年： 1999年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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