文献
J-GLOBAL ID:200902167790577748
整理番号:97A0592108
反応性イオンエッチ装置中のエッチング材料からの交差汚染
Cross-Contamination from Etching Materials in Reactive Ion Etcher.
著者 (2件):
OZAKI Y
(NTT, Kanagawa, JPN)
,
KIMIZUKA M
(NTT, Kanagawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
36
号:
5A
ページ:
2633-2637
発行年:
1997年05月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)