文献
J-GLOBAL ID:200902168163339145
整理番号:01A0117340
Si(001)上のGe成長中に歪によって駆動される二次元から三次元への転移に対する径路
Pathway for the Strain-Driven Two-Dimensional to Three-Dimensional Transition during Growth of Ge on Si(001).
著者 (6件):
VAILIONIS A
(Univ. Illinois, Illinois)
,
CHO B
(Univ. Illinois, Illinois)
,
GLASS G
(Univ. Illinois, Illinois)
,
DESJARDINS P
(Univ. Illinois, Illinois)
,
CAHILL D G
(Univ. Illinois, Illinois)
,
GREENE J E
(Univ. Illinois, Illinois)
資料名:
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻:
85
号:
17
ページ:
3672-3675
発行年:
2000年10月23日
JST資料番号:
H0070A
ISSN:
0031-9007
CODEN:
PRLTAO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)