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著者 (6件)：
資料名：
巻： 2438 ページ： 422-432 発行年： 1995年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902168999595987
整理番号：95A0854455
Evaluation of chemically amplified resist based on adamantyl methacrylate for 193nm lithography.
TAKAHASHI M
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
TAKECHI S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
KAIMOTO Y
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
HANYU I
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
ABE N
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
NOZAKI K
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 2438 ページ： 422-432 発行年： 1995年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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