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著者 (4件)：
資料名：
巻： 78 号： 6 ページ： 838-840 発行年： 2001年02月05日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902169392847401
整理番号：01A0368672
スパッタリングで作製したAgメタライゼーション線のスケーリング特性とエレクトロマイグレーション抵抗
Scaling properties and electromigration resistance of sputtered Ag metallization lines.
HAUDER M
(Technical Univ. Munich, Munich, DEU)
,
GSTOETTNER J
(Technical Univ. Munich, Munich, DEU)
,
HANSCH W
(Technical Univ. Munich, Munich, DEU)
,
SCHMITT-LANDSIEDEL D
(Technical Univ. Munich, Munich, DEU)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 78 号： 6 ページ： 838-840 発行年： 2001年02月05日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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