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著者 (4件)：
資料名：
巻： 9 号： 3/6 ページ： 489-493 発行年： 2000年04月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902169718341384
整理番号：00A0746970
マグネトロンスパッタ-イオンプレーテイング法によって堆積した炭化ほう素膜 膜組成及びトライボロジー性質
Boron carbide films deposited by a magnetron sputter-ion plating process: Film composition and tribological properties.
REIGADA D C
(Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
PRIOLI R
(Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
JACOBSOHN L G
(Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
FREIRE F L JR
(Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 9 号： 3/6 ページ： 489-493 発行年： 2000年04月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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