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著者 (9件)：
資料名：
巻： 17 号： 6 ページ： 2936-2939 発行年： 1999年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902170031308148
整理番号：00A0122706
高加速電圧・電子ビーム描画系における長範囲かぶり効果の低減
Reduction of long range fogging effect in a high acceleration voltage electron beam mask writing system.
OGASAWARA M
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
SHIMOMURA N
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
TAKAMATSU J
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
YOSHITAKE S
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
OOKI K
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
NAKAYAMADA N
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
OKABE H
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
TOJO T
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
TAKIGAWA T
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 17 号： 6 ページ： 2936-2939 発行年： 1999年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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