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著者 (9件)：
資料名：
巻： 14 号： 4 ページ： 657-668 発行年： 2001年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902171544893360
整理番号：01A0758405
三次元リソグラフィーの微細加工における二光子開始剤及び露光条件の最適化
Optimizing Two-Photon Initiators and Exposure Conditions for Three-Dimensional Lithographic Microfabrication.
KUEBLER S M
(Univ. Arizona, AZ)
,
RUMI M
(Univ. Arizona, AZ)
,
WATANABE T
(Univ. Arizona, AZ)
,
BRAUN K
(Univ. Arizona, AZ)
,
CUMPSTON B H
(Univ. Arizona, AZ)
,
HEIKAL A A
(Univ. Arizona, AZ)
,
ERSKINE L L
(Univ. Arizona, AZ)
,
THAYUMANAVAN S
(Univ. Arizona, AZ)
,
PERRY J W
(Univ. Arizona, AZ)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14 号： 4 ページ： 657-668 発行年： 2001年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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