文献
J-GLOBAL ID:200902171657815668
整理番号:00A0956190
MoSi2とNbの界面反応に及ぼすスパッタ蒸着した物質(W,Ti,SiC)の効果
Effects of sputter-deposited materials (W, Ti and SiC) on interfacial reaction between MoSi2 and Nb.
著者 (5件):
KUROKAWA K
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
OCHIAI G
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
TAKAHASHI H
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
OHTA S
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
TAKAHASHI H
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
59
号:
1
ページ:
284-291
発行年:
2000年10月
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)