文献
J-GLOBAL ID:200902172976407226
整理番号:99A0370486
痕跡量金属イオンの分析におけるキレート高分子とその応用
Chelating Resins and Their Applications in the Analysis of Trace Metal Ions.
著者 (4件):
GARG B S
(Univ. Delhi, Delhi, IND)
,
SHARMA R K
(Univ. Delhi, Delhi, IND)
,
BHOJAK N
(Univ. Delhi, Delhi, IND)
,
MITTAL S
(Univ. Delhi, Delhi, IND)
資料名:
Microchemical Journal
(Microchemical Journal)
巻:
61
号:
2
ページ:
94-114
発行年:
1999年02月
JST資料番号:
D0072A
ISSN:
0026-265X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)