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文献
J-GLOBAL ID:200902173690978010   整理番号:00A0437151

Siの拡散を使うGaN膜のコンタクト性能の改善

Improved contact performance of GaN film using Si diffusion.
著者 (5件):
LIN C F
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
CHENG H C
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
CHI G C
(National Central Univ., Chungli, TWN)
BU C J
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
FENG M S
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 76  号: 14  ページ: 1878-1880  発行年: 2000年04月03日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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