文献
J-GLOBAL ID:200902174265196454
整理番号:96A0336461
rfプラズマ蒸着における水素化非晶質シリコン膜中のナノ粒子の蒸着
Nanoparticle deposition in hydrogenated amorphous silicon films during rf plasma deposition.
著者 (3件):
TANENBAUM D M
(Univ. Colorado, Colorado)
,
LARACUENTE A L
(Univ. Colorado, Colorado)
,
GALLAGHER A
(Univ. Colorado, Colorado)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
68
号:
12
ページ:
1705-1707
発行年:
1996年03月18日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)