文献
J-GLOBAL ID:200902174602864863
整理番号:01A1057818
熱酸化したSi基板上に堆積させたPt/Ti膜積層における白金の小丘
Platinum Hillocks in Pt/Ti Film Stacks Deposited on Thermally Oxidized Si Substrate.
著者 (4件):
KWEON S Y
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
,
CHOI S K
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
,
YEOM S J
(HYUNDAI Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
,
ROH J S
(HYUNDAI Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
40
号:
10
ページ:
5850-5855
発行年:
2001年10月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)