文献
J-GLOBAL ID:200902175671068854
整理番号:94A0313914
10nm燐ドープソースおよびドレイン接合をもつサブ50nmゲート長n-MOSFET
Sub-50 NM Gate Length N-MOSFETs with 10NM Phosphorus Source and Drain Junctions.
著者 (6件):
ONO M
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
SAITO M
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
YOSHITOMI T
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
FIEGNA C
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
OHGURO T
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
IWAI H
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting
(Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻:
1993
ページ:
119-122
発行年:
1993年
JST資料番号:
C0829B
ISSN:
0163-1918
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)