文献
J-GLOBAL ID:200902176212078142
整理番号:98A0817086
オゾン化水と希薄HFを反復使用する単一ウエハスピンクリーニングによる汚染物除去
Contamination Removal by Single-Wafer Spin Cleaning with Repetitive Use of Ozonized Water and Dilute HF.
著者 (5件):
HATTORI T
(SONY Corp. Semiconductor Co., Atsugi, JPN)
,
OSAKA T
(SONY Corp. Semiconductor Co., Atsugi, JPN)
,
OKAMOTO A
(SONY Corp. Semiconductor Co., Atsugi, JPN)
,
SAGA K
(SONY Corp. Semiconductor Co., Atsugi, JPN)
,
KUNIYASU H
(SONY Corp. Semiconductor Co., Atsugi, JPN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
145
号:
9
ページ:
3278-3284
発行年:
1998年09月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)