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著者 (7件)：
資料名：
巻： 79 号： 9 ページ： 7234-7240 発行年： 1996年05月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902176477298047
整理番号：96A0503859
炭素イオン堆積した四面体非晶質炭素膜のイオンエネルギーの関数としての性質
Properties of carbon ion deposited tetrahedral amorphous carbon films as a function of ion energy.
XU S
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
TAY B K
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
TAN H S
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
ZHONG L
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
TU Y Q
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
SILVA S R P
(Cambridge Univ., Cambridge, GBR)
,
MILNE W I
(Cambridge Univ., Cambridge, GBR)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 79 号： 9 ページ： 7234-7240 発行年： 1996年05月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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