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資料名：
巻： 89 号： 12 ページ： 8311-8315 発行年： 2001年06月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902177091635908
整理番号：01A0743387
熱プラズマ化学蒸着による微結晶Siの超高速蒸着
Ultrafast deposition of microcrystalline Si by thermal plasma chemical vapor deposition.
CHAE Y K
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
OHNO H
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
EGUCHI K
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
YOSHIDA T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 89 号： 12 ページ： 8311-8315 発行年： 2001年06月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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