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著者 (5件)：
資料名：
巻： 38 号： 12B ページ： 7103-7108 発行年： 1999年12月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902177162374604
整理番号：00A0240135
真空紫外リソグラフィー用の単一層レジストの設計概念
Design Concepts of Single-Layer Resists for Vacuum Ultraviolet Lithography.
KISHIMURA S
(Matsusita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
,
KATSUYAMA A
(Matsusita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
,
SASAGO M
(Matsusita Electronics Corp., Kyoto, JPN)
,
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 12B ページ： 7103-7108 発行年： 1999年12月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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