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文献
J-GLOBAL ID:200902177976140000   整理番号:01A0732073

Ni,Rh及びPt上に吸着したNOの幾何学及び電子構造のX線近吸収端微細構造(NEXAFS)と共鳴光電子分光による評価

Geometric and electronic structures of NO adsorbed on Ni, Rh and Pt studied by using near edge X-ray absorption fine structure(NEXAFS) and resonant photoemission spectroscopy.
著者 (6件):
SAITO T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
IMAMURA M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
MATSUBAYASHI N
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
FURUYA K
(Sci. Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
KIKUCHI T
(Sci. Univ. Tokyo in Yamaguchi, Yamaguchi, JPN)
SHIMADA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)

資料名:
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena  (Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena)

巻: 119  号:ページ: 95-105  発行年: 2001年07月 
JST資料番号: D0266C  ISSN: 0368-2048  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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