文献
J-GLOBAL ID:200902177997552740
整理番号:02A0616881
EUVリソグラフィーにおけるCAレジストの特徴
Characteristics of CA Resist in EUV Lithography.
著者 (5件):
HAMAMOTO K
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
WATANABE T
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
HADA H
(Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kanagawa Pref., JPN)
,
KOMANO H
(Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kanagawa Pref., JPN)
,
KINOSHITA H
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
15
号:
3
ページ:
361-366
発行年:
2002年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)