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資料名：
巻： 169/170 ページ： 472-475 発行年： 2001年01月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902178470155030
整理番号：01A0283027
マグネトロン同時スパッタリングにより作製した非晶質三元合金膜a-SixCyGez:Hの諸性質
Properties of amorphous ternary alloy films a-SixCyGez:H prepared by magnetron co-sputtering.
SAITO N
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN)
,
NAKAAKI I
(Fuji Industrial Res. Inst. Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN)
,
NAKAMURA S
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN)
,
YOSHIOKA S
(Kagawa Univ., Takamatsu, JPN)
,
YAMAGUCHI T
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 169/170 ページ： 472-475 発行年： 2001年01月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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