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著者 (5件)：
資料名：
巻： 149 号： 2/3 ページ： 185-191 発行年： 2002年01月15日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902179335390123
整理番号：02A0170169
アルゴンプラズマ中での中性ループ放電エッチング装置の二次元モデリングおよび最適化
Two-dimensional modeling and optimization of a neutral loop discharge etcher in an argon plasma.
OKRAKU-YIRENKYI Y
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
SUNG Y-M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
OTSUBO M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
HONDA C
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
SAKODA T
(Sojo Univ., Kumamoto, JPN)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 149 号： 2/3 ページ： 185-191 発行年： 2002年01月15日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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