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著者 (3件)：
資料名：
巻： 28 号： 12 ページ： 1461-1465 発行年： 1999年12月
JST資料番号： D0277B ISSN： 0361-5235 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902179378920843
整理番号：00A0145235
フラッシュ蒸着によるアモルファスNi-Si二元合金膜の特性化
Characterization of Amorphous Ni-Si Binary Alloy Films by Flash Evaporation.
KODAMA J
(Kinki Univ., Osaka, JPN)
,
TSUBOI T
(Kinki Univ., Osaka, JPN)
,
OKAMOTO N
(Kinki Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻： 28 号： 12 ページ： 1461-1465 発行年： 1999年12月
JST資料番号： D0277B ISSN： 0361-5235 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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