文献
J-GLOBAL ID:200902181955502554
整理番号:99A0795748
157nmレジスト設計のための見通し
Outlook for 157-nm resist design.
著者 (6件):
KUNZ R R
(Massachusetts Inst. Technol., MA)
,
BLOOMSTEIN T M
(Massachusetts Inst. Technol., MA)
,
HARDY D E
(Massachusetts Inst. Technol., MA)
,
GOODMAN R B
(Massachusetts Inst. Technol., MA)
,
DOWNS D K
(Massachusetts Inst. Technol., MA)
,
CURTIN J E
(Massachusetts Inst. Technol., MA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
3678
号:
Pt.1
ページ:
13-23
発行年:
1999年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)