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著者 (4件)：
資料名：
巻： 14 号： 2 ページ： 556-561 発行年： 1996年03月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902182129565627
整理番号：96A0361789
Ar/SiH4 rf放電におけるダスト形成と帯電
Dust formation and charging in an Ar/SiH4 radio-frequency discharge.
STOFFELS E
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
STOFFELS W W
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
KROESEN G M W
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
DE HOOG F J
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 14 号： 2 ページ： 556-561 発行年： 1996年03月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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