文献
J-GLOBAL ID:200902183590120072
整理番号:01A0701746
オフ角R面サファイア基板上でのMOCVDによるAlNエピタクシー成長
AlN epitaxial growth on off-angle R-plane sapphire substrates by MOCVD.
著者 (7件):
SHIBATA T
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
,
ASAI K
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
,
NAKAMURA Y
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
,
TANAKA M
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
,
KAIGAWA K
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
,
SHIBATA J
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
,
SAKAI H
(NGK Insulators, Ltd., Nagoya, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
229
ページ:
63-68
発行年:
2001年07月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)