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著者 (5件)：
資料名：
巻： 40 号： 7 ページ： 4661-4665 発行年： 2001年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902183811700532
整理番号：01A0772417
Cu-Zr膜のアニーリングによるSiO2上のCu(111)単一配向状態の実現とCu-Zr/ZrN/Zr/Si接触系の熱安定性
Realization of Cu(111) Single-Oriented State on SiO2 by Annealing Cu-Zr Film and the Thermal Stability of Cu-Zr/ZrN/Zr/Si Contact System.
SASAKI K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
MIYAKE H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SHINKAI S
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
ABE Y
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
YANAGISAWA H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40 号： 7 ページ： 4661-4665 発行年： 2001年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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