文献
J-GLOBAL ID:200902184324216001
整理番号:98A0669463
プラズマ源イオン注入による三次元基板中への窒素イオンの注入
Nitrogen ion implantation into three-dimensional substrates by plasma source ion implantation.
著者 (2件):
BABA K
(Technol. Center of Nagasaki, Nagasaki, JPN)
,
HATADA R
(Technol. Center of Nagasaki, Nagasaki, JPN)
資料名:
Materials Chemistry and Physics
(Materials Chemistry and Physics)
巻:
54
号:
1/3
ページ:
135-138
発行年:
1998年07月
JST資料番号:
E0934A
ISSN:
0254-0584
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)