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資料名：
巻： 41 号： 11A ページ： 6563-6569 発行年： 2002年11月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902184432190515
整理番号：03A0011661
対向ターゲットスパッタ及び浸漬誘導結合プラズマ源を用いたTiN膜作製のための反応性スパッタイオンめっきの研究
Studies of a Reactive Sputter Ion Plating for Preparation of TiN Films Using a Facing Target Sputter and Immersed Inductive Coupled Plasma Source.
SUNG Y-M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
OTSUBO M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
HONDA C
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
PARK C-H
(Pusan National Univ., Pusan, KOR)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41 号： 11A ページ： 6563-6569 発行年： 2002年11月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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