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文献
J-GLOBAL ID:200902184432190515   整理番号:03A0011661

対向ターゲットスパッタ及び浸漬誘導結合プラズマ源を用いたTiN膜作製のための反応性スパッタイオンめっきの研究

Studies of a Reactive Sputter Ion Plating for Preparation of TiN Films Using a Facing Target Sputter and Immersed Inductive Coupled Plasma Source.
著者 (4件):
SUNG Y-M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
OTSUBO M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
HONDA C
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
PARK C-H
(Pusan National Univ., Pusan, KOR)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 41  号: 11A  ページ: 6563-6569  発行年: 2002年11月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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