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資料名：
巻： 75 号： 13 ページ： 1920-1922 発行年： 1999年09月27日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902184750871963
整理番号：99A0948308
ダイヤモンドの化学気相蒸着プロセス中のPt層を用いる埋め込みダイヤモンド層へのOhm接触の作製
Fabrication of ohmic contacts to buried diamond layers using Pt layer in the diamond chemical-vapor-deposition process.
WANG C
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ITO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 75 号： 13 ページ： 1920-1922 発行年： 1999年09月27日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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