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著者 (9件)：
資料名：
巻： 114 号： 8 ページ： 3554-3561 発行年： 2001年02月22日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902184820799521
整理番号：01A0435815
濃密気体状アルゴン及びクリプトン中の電子-イオン再結合速度定数 電場強度とN2あるいはCH4添加の影響
Electron-ion recombination rate constants in dense gaseous argon and krypton: Effects of electric field strength and the addition of N2 or CH4.
TAKEDA K
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KATO R
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
HAYASHIDA M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ODAKA T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SHINSAKA K
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
KAMETA K
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ODAGIRI T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KOUCHI N
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
HATANO Y
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Chemical Physics
(Journal of Chemical Physics)
巻： 114 号： 8 ページ： 3554-3561 発行年： 2001年02月22日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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