文献
J-GLOBAL ID:200902185326712258
整理番号:99A0326664
BiOx緩衝層を用いて有機金属化学蒸着したBi4Ti3012薄膜の新しい低温処理
New Low-Temperature Processing of Metalorganic Chemical Vapor Deposition-B4Ti3O12 Thin Films Using BiOx Buffer Layer.
著者 (3件):
KIJIMA T
(SHARP Corp., Chiba, JPN)
,
USHIKUBO M
(SHARP Corp., Chiba, JPN)
,
MATSUNAGA H
(SHARP Corp., Chiba, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
1A
ページ:
127-130
発行年:
1999年01月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)