文献
J-GLOBAL ID:200902185485190017
整理番号:96A0166021
低温の鉄薄膜-シリコン反応
Low temperature iron thin film-silicon reactions.
著者 (2件):
BALDWIN N R
(Univ. Alberta, Alberta, CAN)
,
IVEY D G
(Univ. Alberta, Alberta, CAN)
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
31
号:
1
ページ:
31-37
発行年:
1996年01月01日
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)