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資料名：
巻： 190 号： 1/4 ページ： 366-370 発行年： 2002年05月08日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902185674724545
整理番号：02A0599355
熱処理したNi(膜)/4H-SiC(基板)界面の軟X線放射研究
Soft X-ray emission study of thermally treated Ni(film)/4H-SiC(substrate) interface.
OHI A
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
LABIS J
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
MORIKAWA Y
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
FUJIKI T
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
HIRAI M
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
KUSAKA M
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
IWAMI M
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 190 号： 1/4 ページ： 366-370 発行年： 2002年05月08日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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