文献
J-GLOBAL ID:200902186014808769
整理番号:95A0954341
InN,InGaN及びInAlNにおけるドライエッチング損傷
Dry etch damage in InN, InGaN, and InAlN.
著者 (5件):
PEARTON S J
(Univ. Florida, Florida)
,
LEE J W
(Univ. Florida, Florida)
,
MACKENZIE J D
(Univ. Florida, Florida)
,
ABERNATHY C R
(Univ. Florida, Florida)
,
SHUL R J
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
67
号:
16
ページ:
2329-2331
発行年:
1995年10月16日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)