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著者 (4件)：
資料名：
巻： 10 号： 4 ページ： 595-601 発行年： 1997年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902186449851933
整理番号：97A0632271
極性変化ユニットを有する重合体系を用いるArF表面修飾レジスト法
ArF Surface Modification Resist Process using Polymer System with Polarity Change Unit.
MATSUO T
(Matsushita Electrnic Ind. Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
ENDO M
(Matsushita Electrnic Ind. Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 10 号： 4 ページ： 595-601 発行年： 1997年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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