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著者 (7件)：
資料名：
巻： 34 号： 10B ページ： L1392-L1394 発行年： 1995年10月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902187051537356
整理番号：95A0977261
直流パルスCF4/H2放電プラズマにおけるCF2ラジカルの拡散係数の測定
Measurement of Diffusion Coefficient of CF2 Radical in DC Pulsed CF4/H2 Discharge Plasma.
ARAI T
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
GOTO M
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
TAKAYAMA D
(Toshiba Lighting & Technol. Corp., Yokosuka, JPN)
,
SHIMIZU T
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
MURAKAMI M
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
HORIKOSHI K
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
FUJIOKA H
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 34 号： 10B ページ： L1392-L1394 発行年： 1995年10月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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