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著者 (4件)：
資料名：
巻： 65 号： 12 ページ： 1248-1252 発行年： 1996年12月
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902187166595368
整理番号：97A0088471
強誘電体スパッタ薄膜の組成制御および高速成膜技術
Compositional control and high-rate deposition of sputtered ferroelectric thin films.
すう江こう
(日本真空技術)
,
西岡浩
(日本真空技術)
,
大沢明
(日本真空技術)
,
谷典明
(日本真空技術)
資料名：
応用物理
(JSAP International)
巻： 65 号： 12 ページ： 1248-1252 発行年： 1996年12月
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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