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著者 (5件)：
資料名：
巻： 13 号： 3 ページ： 427-433 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902187693102094
整理番号：00A0692960
凝集抑制抽出現像(SAGEX)レジスト
Suppressed Aggregate Extraction Development (SAGEX) Resists.
YAMAGUCHI T
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
NAMATSU H
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
NAGASE M
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
YAMAZAKI K
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
KURIHARA K
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13 号： 3 ページ： 427-433 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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