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資料名：
巻： J84-C 号： 6 ページ： 508-515 発行年： 2001年06月01日
JST資料番号： S0623C ISSN： 1345-2827 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902189090125548
整理番号：01A0575118
原料ガス分離分解型プラズマCVD法により作製したa-SiC:H膜の光学的特性
Optical Properties of a-SiC:H Films Prepared by Plasma CVD Method Dissociating Source Gases Separately.
本橋光也
(東京電機大 工)
,
本間和明
(東京電機大 工)
資料名：
電子情報通信学会論文誌 C
(IEICE Transactions on Electronics (Japanese Edition))
巻： J84-C 号： 6 ページ： 508-515 発行年： 2001年06月01日
JST資料番号： S0623C ISSN： 1345-2827 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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