文献
J-GLOBAL ID:200902190289458722
整理番号:95A0807285
材料処理用の疑似スパーク生成パルス電子ビーム
Pseudospark Produced Pulsed Electron Beam for Material Processing.
著者 (5件):
STARK R
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
,
CHRISTIANSEN J
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
,
FRANK K
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
,
MUECKE F
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
,
STETTER M
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
資料名:
IEEE Transactions on Plasma Science
(IEEE Transactions on Plasma Science)
巻:
23
号:
3
ページ:
258-264
発行年:
1995年06月
JST資料番号:
D0036B
ISSN:
0093-3813
CODEN:
ITPSBD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)